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EMS150T Plus镀膜仪

    EMS150T Plus的机壳是整体成型的,结构坚固耐用,配有气冷的70L/S的涡轮分子泵,自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平,真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T Plus具有“真空闭锁”功能,可在设备不工作时维持腔室的真空度,从而保证高真空的性能。

    EMS150T Plus系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面,让用户真正领略至臻完美的镀膜品质!

根据不同的应用方向,EMS150T细分为三个型号:

l  EMS150TS Plus:高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater,可溅射易氧化和不易氧化金属,可选各种溅射靶材,包括场发射国际常用的铱和鉻。

l  EMS150TE Plus:高真空镀碳仪,可制作高稳定的k8和表面覆形膜,是TEM应用最理想的选择。

l  EMS150TES Plus:集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式,镀膜头可在几秒内快速更换,只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型,并显示相应的操作模式。

注:上述各型号都可配备如下可选的附件:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等

 

  

   

触摸屏控制:

EMS150T Plus操作十分简单,直观的触摸屏,即使最不熟练的操作者也可以自由操作,同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用,设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。

 

镀膜插入头选项:

l  具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头

l  溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料,直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材,可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料(仅为TSTES型号)

l  适用于3.05mm碳棒蒸发插入头

l  适用于6.15mm碳棒蒸发头,建议使用3.05mm直径的碳棒,它们更容易控制、更经济

l  碳丝蒸发插入头

l  金属蒸发和光阑洁净头,包括向上蒸发或向下蒸发(仅为TETES型号)

 

样品台选项:

l  EMS150T Plus具有各种易更换的样品台,drop-in落入式设计具高度可调(除旋转行星台)。

l  标准配置为旋转台, 直径为50mm

l  可预设倾斜角度的旋转台(可选)

l  可变角度旋转行星台(可选)

l  可用于4〞晶圆的平面旋转台(可选)

l  k8k8样品台(可选)

 

其它选项:

l  用于高样品的加高腔室

l  膜厚监测器(FTM

l  用于测量低和高真空的全范围真空计

 

特点和优点:

l  金属溅射或碳蒸发或两者兼备:一体化设计,节约空间

l  精细颗粒溅射:高分辨率场发射扫描国际(FE-SEM)制样的精细镀膜应用 

l  涡轮分子泵高真空系统:允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜,大大拓宽了可溅射靶材范围,既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用,也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台 

l  全自动触摸屏控制:快速数据输入,简单操作 

l  可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想 

l  与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制 

l  精细的厚度控制:使用膜厚监控选项 

l  “智能”式系统识别:自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型 

l  高真空碳蒸镀:对SEMTEM镀k8应用非常理想 

l  蒸发电流波形控制 

l  Drop-in落入式快换样品台(标配旋转台) 

l  真空闭锁功能:可让工作腔室处于真空状态,改善后续真空效果,或在真空条件下保存样品

l  镀制厚膜能力:一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟(材料科研领域的应用)

l  人体工程学设计的整体成型机壳:易维护和易拆装 

l  带有本地FTP服务器连接的以太网端口:简单的程序更新 

l  设有功率因素补偿,有效利用电能,降低运行成本 

l  符合当前电器法规(CE认证) 

 

EMS150T Plus仪器参数: 

仪器尺寸

585mm*470mm*410mm(总高650mm)

重量

33.4KG

工作腔室

150mm(内径)*127mm(高)硼硅酸盐玻璃腔室,并带整体安全防护罩

触摸屏用户界面

带有触摸按钮的全图像界面,包含多达十个镀膜程序,可提醒何时需要维护

工作腔室

150mm(内径)*127mm(高)硼硅酸盐玻璃腔室,并带整体安全防护罩

样品台

转速为8-20rpm的旋转台

真空系统

涡轮子分子泵:带有内部空气却的涡轮分子泵,抽速为70L/s

旋转机械泵:抽速为50L/m的两级旋转机械泵,带有油污过滤器

真空测量

皮拉尼真空计作为标配

极限真空度

10-5mbar两级

电源需求

90-250V~50/60Hz 1400VA( 包括旋转机械泵电压240V

气体

溅射工作气体氩气,99.999%TSTES版本);氮气,放气破真空气体(可选)

金属蒸发和光阑清洁头

用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEMTEM光阑

碳蒸发

稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳

电流脉冲

1-90安培

溅射

0-150mA。可预设膜厚(需FTM选项)或使用内置定时器

溅射工作真空范围

5*10-35*10-1mbar

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